产品介绍

TS-300 Altair系列是我公司自主研发的原子层沉积设备，，ALD反应腔搭载在高产能的PECVD平台上，，满足了对设备产能的需求。。。。现可提供高质量的Thermal ALD, 如AIN薄膜，，并陆续开发薄膜工艺。。。该产品采用胜意六边形平台
，，可搭配5个反应腔，，，，具有高产能和低颗粒度等优势。。。。

产品特点
- 六边形的高产能平台
- 可搭配多个反应腔，，实现产能的优化配置
- 可沉积高质量的AIN薄膜
- ALD薄膜在高宽比(20:1)情况下台阶覆盖率可达到95%
- 通过S2安全认证和F47标准检验