产品系列
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产品介绍
产品介绍
VS-300T 为胜意自主研发的ALD原子层沉积设备。。。。VS-300T 系列产品可搭载4个反应腔，，结构紧凑，，同时满足高产能需求，，，具有优异坪效比及CoO。。该系列产品可沉积高质量的SiO、、、、SiN、、TiO薄膜，，在均匀性、、颗粒度、、台阶覆盖率等方面达到国际领先水平，，，，满足逻辑、、、存储等客户先进技术节点要求。。
- ALD薄膜在高深宽比（20:1）情况下台阶覆盖率可达到95%
可搭载4个反应腔的高坪效比的新型五边形设备
优异工艺性能，，具有优异的均匀性和保形性
通过S2安全认证和E47标准检验
