产品介绍

SACVD 设备系列是我公司自主研发的次常压化学气相沉积（SACVD）设备。。。SACVD反应腔搭载在已通过量产验证的高产能PECVD平台上，
，
，充分实现客户对产能的需求。。。。该设备主要应用在STI、、、PMD/ILD等，
，，满足Gap-fill的需求
。。
。

产品特点
-高质量的TEOS SiO2和BPSG工艺
-可依客户选择配置1-3路液态源，
，实现多种先进工艺
-可与8英寸兼容互相切换（PF-200T SA）
-可搭载1-3个PM
-通过S2安全认证和F47标准检验