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    产品介绍

    PF-300T Astra 系列是我公司自主研发的原子层沉积(Atomic Layer Deposition)设备,,可配置3个2站的反应腔,,,现已应用于先进的芯片制造及先进封装(TSV)领域,,,同时针对先进制程前道工艺(FEOL)进行研制开发。。现可提供具有高质量的PEALD SiO2、、、、SiN薄膜等。。。。


    产品特点
    - ALD薄膜在高宽比情况下台阶覆盖率可达到95%
    - 优异的生产成本(CoO)及性能指标
    - 具有优异的均匀性和优异的保型性
    - 可搭载1-3个PM,,,每个PM可配置2个stations
    - 通过S2安全认证和F47标准检验


     
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